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公司发布2023 年中报：1）23H1 实现收入25.3 亿元，yoy+28.1%；归母净利润10.0 亿元，yoy+114.4%；扣非归母净利润5.2 亿元，yoy+17.8%，毛利率45.9%，同比+0.53pcts。
2）23Q2 收入13.0 亿元，yoy+27.5%，qoq+6.5%；归母净利润7.3 亿元，yoy+107.5%，qoq+164.7%；扣非归母净利润2.9 亿元，yoy+14.5%，qoq+27.6%，毛利率45.9%，同比+0.63pcts，环比持平。扣非归母净利率22.3%，同比-2.5pcts，环比+3.7pcts。此前Q2 业绩预告营收为13.0 亿元，扣非归母2.7-3.1 亿元，业绩符合预期。
刻蚀设备市占率进一步提高带动Q2 业绩增长23Q2 公司刻蚀设备在国内外市占率不断提升，单季收入为9.1 亿元，YoY+55%，营收比重为69.7%。公司MOCVD 设备领先优势持续巩固，单季实现收入1.3 亿元，YoY-34%，营收占比为10%。Q2 归母净利润环比增幅较大系公司出售拓荆科技股票产生非经常性收益4.06 亿元。
CCP 和ICP 工艺齐升级，先进逻辑&3D NAND 空间进一步打开1）CCP：已进入2D 和3D 存储产线。大马士革（28nm 及以下逻辑）和高深宽比（存储）工艺攻关，取得良好进展。用于大马士革工艺的CCP 刻蚀机Primo SD-RIE 目前已经进入客户验证阶段；超高深比刻蚀机已在客户端验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的能力，有望在未来存储扩产中发挥至关重要作用。2）ICP：工艺覆盖超100 个环节，在先进封装、2.5D封装、MCU、MEMS 微机电系统等领域获得批量重复订单，在12 寸3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺上验证成功，并在欧洲客户12 寸微机电系统芯片线上获认证机会，有望打开新市场。23H1，公司在单台机Nanov SE 的基础上，推出高深宽比结构刻蚀的Nanova VE（目前已在DRAM 客户产线上验证成功）和高均匀性高深宽比刻蚀的Nanova LUX 两种ICP 设备，进一步扩展了ICP 的验证工艺范围。
内生+外延打造高端装备平台企业
1）内生：公司开发的钨CVD 具备优秀的阶梯覆盖率和填充能力，能够满足先进逻辑器件、64/128 层3D NAND 中多个关键应用，目前正在存储客户端验证；正在开发的ALD 钨设备，已和关键客户开始对接验证，用于高端存储和逻辑器件的ALD 氮化钛设备也在稳步推进，预计23H2 发往客户端进行量产验证；SiC 功率器件的外延设备研发进展顺利，样机即将在客户端验证；此外，公司正筹划更先进制程的薄膜设备。2）对外投资：2022 年公司对睿励增资1.08 亿元，并0.43 亿元受让睿励老股东股权。睿励12 寸量测已进入至28nm 及以上制程产线，14nm 验证中，并支持64 层3D NAND 生产、96 层工艺验证中。
投资建议
公司刻蚀设备在国内外市占率稳步提升，多产品验证顺利。我们上调公司2023/24/25 年归母净利预测为16/18/22 亿元（此前23/24/25 年归母净利为14/18/22 亿元），对应PE 为51/45/36 倍，考虑到公司作为国内刻蚀、MOCVD 设备领军企业之一，技术实力国内领先，维持“买入”评级。
风险提示
行业景气不及预期，研发进展不及预期，客户处产品验证不及预期。
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